半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分不同水质。
我公司现采用最新工艺,反渗透作预处理再配上电去离子(EDI)装置,这是目前制取超纯水最经济,最环保用来制取超纯水的工艺,不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水,对环境无破坏性。脱盐率高,运行压力低的进口超低卷式复合反渗透膜,产水水质优良,运行成本低廉,使用寿命长。 高效率,低噪音,品质优越的进口高压泵,减少能耗,降低运行噪声。 进口在线原水及产品水电导仪,PH表可随时监测水质情况。 进口在线产品水,浓水流量计可随时监测产品水量及系统回收率。 配置自动循环冲洗系统,以备膜污染后清洗之用。 快冲阀定时冲洗膜表面,降低膜污染速度,延长使用寿命。
工作叁数
电脑单机推进力:0.5M3/h-120M3/h 脱盐率:反渗透膜性和系统98% 进行操作学习压力:1Mpa-1.2Mpa 出售率:60%-80% 类产品出液电阴率:16-18MΩ.cm
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